作為真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支,真空鍍膜技術(shù)已被普遍地應(yīng)用于電子學(xué)、光學(xué)、能源開(kāi)發(fā)、理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等眾多領(lǐng)域中。真空鍍膜的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等,除此之外還有化學(xué)氣相沉積法。
如果說(shuō)其目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能的話,真空鍍膜又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分,現(xiàn)就其幾個(gè)主要應(yīng)用方面做一簡(jiǎn)單介紹。
首先在光學(xué)方面,一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍?nèi)舾蓪硬煌镔|(zhì)的薄膜后,即可成為高反射或無(wú)反射(即增透膜)或者作任何比例的反射或透射材料,也可做成對(duì)某種波長(zhǎng)的吸收、而對(duì)另一種波長(zhǎng)的透射的濾色片。高反射膜從大口徑的天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光器,乃至現(xiàn)代建筑物的鍍膜玻璃,都有普遍的應(yīng)用。
增透膜則大量用于照相機(jī)和攝象機(jī)的鏡頭上。在電子學(xué)方面,真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的集成電路,包括存貯器、運(yùn)算器、高速邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤(pán)、半導(dǎo)體激光器、約瑟夫遜器件、電荷耦合器件( CCD )也都用到各種薄膜。
在顯示器件方面,錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導(dǎo)電膜、攝像管光導(dǎo)膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法制備。在元件方面,在真空中蒸發(fā)鎳鉻,鉻或金屬陶瓷可以制造電阻,在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器,蒸發(fā)硒可以得到靜電復(fù)印機(jī)用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導(dǎo)膜和慣性約束巨變反應(yīng)用的微珠鍍層。
此外還可以對(duì)珠寶、鐘表外殼表面、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線等蒸鍍裝飾用薄膜,以及采用濺射鍍或離子鍍對(duì)刀具、模具等制造超硬膜。近兩年內(nèi)興起的多弧離子鍍制備鈦金制品,如不銹鋼薄板、鏡面板、包柱、扶手、高規(guī)格床托架、樓梯欄桿等目前正在盛行。
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